телефон 978-63-62
978 63 62
zadachi.org.ru рефераты курсовые дипломы контрольные сочинения доклады
zadachi.org.ru
Сочинения Доклады Контрольные
Рефераты Курсовые Дипломы
путь к просветлению

РАСПРОДАЖАОдежда и обувь -30% Рыбалка -30% Электроника, оргтехника -30%

все разделыраздел:Промышленность и Производство

Механизмы имплантации в металлы и сплавы ионов азота с энергией 1-10 кэВ

найти похожие
найти еще

Забавная пачка "5000 дублей".
Юмор – настоящее богатство! Купюры в пачке выглядят совсем как настоящие, к тому же и банковской лентой перехвачены... Но вглядитесь
60 руб
Раздел: Прочее
Браслет светоотражающий, самофиксирующийся, желтый.
Изготовлены из влагостойкого и грязестойкого материала, сохраняющего свои свойства в любых погодных условиях. Легкость крепления позволяет
66 руб
Раздел: Прочее
Коврик для запекания, силиконовый "Пекарь".
Коврик "Пекарь", сделанный из силикона, поможет Вам готовить вкусную и красивую выпечку. Благодаря материалу коврика, выпечка не
202 руб
Раздел: Коврики силиконовые для выпечки
Каждое из этих предположений ограничивает область применимости теории. В частности, предположение 1 исключает случай кристаллических и очень тонких аморфных мишеней. В этой модели не учитывается также оболочечное строение атомов. При близких атомных массах и порядковых номерах сталкивающихся атомов неупругие и упругие процессы становятся коррелированными, поскольку таким столкновениям соответствует значительная ионизация в обеих атомных подсистемах. Ионизация, в свою очередь, изменяет форму потенциала взаимодействия, а, следовательно, и угол рассеяния частиц. Такого рода корреляции могут существенно влиять на форму распределений ионов по пробегам (моменты кривой распределения высоких порядков). Используемая в теории ЛШШ статистическая модель атома Томаса-Ферми, позволяет достигнуть наилучшего совпадения результатов расчетов с экспериментальными данными. Рисунок 2.3 — Схема пробега иона в твёрдом теле. (1) – поток ионов; (2) – путь иона в материале; (3), (4), (5) – атомы в узлах кристаллической решётки материала подложки; (6) и (7) – начальное и конечное положение иона при внедрении в материал подложки. Ионная имплантация (рисунок 2.3) охватывает два взаимосвязанных процесса: внедрение (легирование) и радиационную обработку (дефектообразование) . При бомбардировке твердых тел тяжелыми заряженными частицами (массой более 1 а.е.м.) возникают эффекты, которые способствуют их торможению или рассеянию. Эти эффекты классифицируют следующим образом : Неупругие соударения со связанными электронами тормозящего вещества. Потеря энергии при таких соударениях обусловлена возбуждением атомов или молекул; Неупругие соударения с ядрами. Они вызывают тормозное излучение, возбуждение ядра или ядерные реакции; Упругие соударения со связанными электронами. Упругие соударения с ядрами или атомами. При этом часть кинетической энергии передается атомам мишени. Черенковское излучение. Оно возбуждается частицами, которые движутся в среде со скоростью, больше фазовой скорости света. При ионной имплантации частицы движутся со скоростью меньше фазовой скорости света, поэтому черенковское излучение отсутствует. При торможении частиц неупругие соударения с ядрами и упругие столкновения с электронами не играют большой роли по сравнению с неупругими соударениями с электронами (электронное торможение) и упругими соударениями с ядрами (ядерное торможение).

Поэтому в дальнейшем целесообразно рассматривать лишь эти два механизма. Какой из этих эффектов будет преобладать, зависит от энергии и массы ускоренных частиц и массы и порядкового номера атомов вещества. В диапазоне энергий, важных для ионной имплантации (от 1 кэВ ( Дж) до 1 МэВ ( Дж)), следует рассматривать обе составляющие . Для расчета торможения первичных ионов в веществе введено понятие сечения электронного и ядерного торможения Se, : , (2.1) где — число атомов в единице объема ( } ПРИЛОЖЕНИЕ Б Результаты работы Программы IO IMPLA A IO для стали Р6М5 Io E ergy : 3,204384E-16 Средний пробег ионов: 2,32613035597026E-8 Страгглинг среднего пробега ионов: 6,79506169419965E-9 Средний проецированный пробег ионов: 8,38895746733611E-9 Страгглинг среднего проецированного пробега ионов: 2,45057132736608E-9 Максимальная концентрация внедрённой примеси: 1,30236551593508E29 Максимальная концентрация вакансий: 4,42091861648541E29 Максимальное значение остаточных концентрационных напряжений: -367938963,822719 Io E ergy : 7,209864E-16 Средний пробег ионов: 5,078510843904E-8 Страгглинг среднего пробега ионов: 1,48352797212844E-8 Средний проецированный пробег ионов: 1,83151435849541E-8 Страгглинг среднего проецированного пробега ионов: 5,35019588556022E-9 Максимальная концентрация внедрённой примеси: 5,9652761494482E28 Максимальная концентрация вакансий: 9,08301934476326E28 Максимальное значение остаточных концентрационных напряжений: -185484054,22526 Io E ergy : 1,1215344E-15 Средний пробег ионов: 7,04012176741875E-8 Страгглинг среднего пробега ионов: 2,05655119978581E-8 Средний проецированный пробег ионов: 2,53894980219664E-8 Страгглинг среднего проецированного пробега ионов: 7,41674708819403E-9 Максимальная концентрация внедрённой примеси: 4,30315278807487E28 Максимальная концентрация вакансий: 4,09627015317492E28 Максимальное значение остаточных концентрационных напряжений: -137531263,764993

Преимущество ХТО перед механическими, термическими и деформационно-термическими методами упрочняющей обработки, заключается в том, что происходит термическое упрочнение сердцевины и поверхностного слоя образца. Характерной особенностью ХТО является необходимость нагрева заготовок, что связано с большими затратами энергии . Основой всех процессов ХТО является диффузия, которая определяет длительное время обработки образцов. ХТО не позволяет получить концентрацию примесей выше предела растворимости диффундирующего элемента в обрабатываемом материале при температуре процесса . Недостаточно интенсивное удаление продуктов реакции от поверхности или загрязнение поверхности окислами, пригарами, сажей и т.д. увеличивает сопротивление диффузионным процессам . Поэтому перед ХТО необходимо подвергать образцы тщательной очистке . Все эти факторы, а также громоздкость оборудования приводят к существенным затратам. Чем больше зона химического соединения, тем больше изменение размера образцов; кроме того, в процессе обработки возможно коробление образцов, что нежелательно . ХТО часто связана с применением вредных для здоровья веществ, что вызывает необходимость дополнительных расходов на обеспечение экологической безопасности . Ионные технологии поверхностного модифицирования являются на сегодняшний день наиболее прогрессивными . Однако, ионные технологии требуют применения вакуумной техники и высоких ускоряющих напряжений. Очевидные преимущества этой группы методов включают легкость управления пучком заряженных частиц, возможность разгонять их до практически любой необходимой энергии и легко изменять вид используемых ионов, исключительную чистоту методов, воспроизводимость и контролируемость параметров обработки . Используемые ионные технологии предназначены: для создания покрытий различного функционального назначения, в том числе износостойких; для поверхностного модифицирования за счет внедрения ионов в материал подложки без формирования покрытий. В первом случае, при наиболее распространенном на практике ионно-плазменном напылении , осаждение потока ионов ведется из плазмы на деталь, находящуюся под отрицательным потенциалом, значение которого достигает 103 В и выше. Между образцом и заземленными частями установки создается тлеющий разряд в инертном газе, обычно аргоне, находящемся под давлением в единицы Паскалей. Разряд обеспечивает очистку поверхности за счет распыления адсорбированных газов. После очистки материала подложки ионами аргона, производится ионная бомбардировка поверхности образцов ионами металла с целью внедрения ионов в поверхностный слой, создания переходной зоны между покрытием и основным материалом для повышения адгезии. Бомбардировка сопровождается нагревом поверхности образцов до температуры, которая не должна превышать температуру отпуска материала подложки. Метод позволяет получать пленки равномерной толщины и мелкодисперсной структуры с хорошей адгезией к подложке . На практике получили широкое распространение покрытия из чистых металлов, нитридов и карбидов титана, циркония, хрома и др. К недостаткам ионно-плазменного напыления можно отнести большое число параметров, активно влияющих на структуру и свойства получаемых покрытий, а также возможные перегрев поверхности выше температуры отпуска и разупрочнение сталей или, наоборот, недостаточный нагрев поверхности, приводящий к низкой адгезионной прочности покрытия .

Молочный гриб необходим в каждом доме как источник здоровья и красоты
Молочный гриб необходим в каждом доме как источник здоровья и красоты + книга в подарок

 Биоритмология и уринотерапия (Целительные силы, Том 3)

Глина за счет своих свойств придает урине особую структуру, насыщает ее лучистой энергией (в глине име ются радиоактивные элементы в естественных количествах и пропорциях), что благоприятно сказывается на здоровье человека. (Помните, в околоплодной жидкости имеются радиоактивные элементы, чтобы ребенок быстрее развивался.) Помимо этого урина насыщалась микроэлементами. Некоторые поступают следующим образом: выдерживают урину от 1 до 5 дней в сосуде из металла (олово, красная медь), а затем уже на ней замешивают глину и применяют при ряде серьезных заболеваний. Такая моча "старится" и приобретает щелочные свойства, т. е. способность аммиака отторгать омертвевшее "мясо"; насыщается ионами металлов, медные ионы обладают энергией Ян. Само свойство "щелочности" тоже относится к янским - сжимающим факторам. Таким образом, если рост опухоли - это иньский - расширяющийся процесс, то, применяя противоположный - янский - сжимающий, мы можем успешно воздействовать на опухоль. Примерно так действовали русские лекари при раке мозга: они настаивали мочу в медном сосуде несколько дней, пока не появлялся характерный аммиачный запах, а затем на этой моче замешивали глину

скачать реферат Полупроводниковые материалы в металлургии

В настоящее время насчитывается свыше двадцати различных областей, в которых с помощью полупроводников разрешаются важнейшие вопросы эксплуатации машин и механизмов, контроля производственных процессов, получения электрической энергии, усиления высокочастотных колебаний и генерирования радиоволн, создания с помощью электрического тока тепла или холода, и для осуществления многих других процессов. К полупроводниковым материалам относится большинство минералов, неметаллические элементы IV, V, VI групп периодической системы Менделеева, неорганические соединения (оксиды, сульфиды), некоторые сплавы металлов, органические красители. Широко применяемыми полупроводниковыми материалами являются элементы IV группы периодической системы Менделеева – германий и кремний. Это вещества, кристаллизирующиеся в решётке типа алмаза. Такая решётка представляет собой тетраэдр, по вершинам которого расположены четыре атома, окружающие атом, находящийся в центре тетраэдра. Здесь каждый атом связан с четырьмя ближайшими соседями силами ковалентной связи, так как каждый из них имеет четыре внешних валентных электрона.

Фоторамка "Poster white".
Фоторамка для фотографий размером: 30х40 см. Может располагаться как вертикально, так и горизонтально, на подставке. Есть настенные
342 руб
Раздел: Размер 30x40
Настольная игра "Матрешкино".
В сказочной деревне Матрешкино сегодня с самого утра переполох! Юные красавицы затеяли хитрую игру: каждая матрешка придумала свое
418 руб
Раздел: Карточные игры
Увлекательная настольная игра "Делиссимо", новая версия.
В этой милой игре вам предстоит немало потрудиться, так как вы работаете на известную и уважаемую итальянскую пиццерию «Делиссимо». Её
632 руб
Раздел: Карточные игры
 Биоритмология. Уринотерапия

Помимо этого урина насыщается и микроэлементами. Некоторые сначала выдерживают урину 15 дней в металлическом сосуде (олово, красная медь), а затем уже замешивают на ней глину и применяют при ряде серьезных заболеваний. Такая моча «старится» и приобретает щелочные свойства, насыщается ионами металлов; медные ионы обладают энергией Ян. Само свойство «щелочности» тоже относится к янским сжимающим факторам. Таким образом, если рост опухоли иньский, расширяющийся процесс, то, применяя янский, сжимающий, можно успешно воздействовать на нее. Русские лекари при раке мозга настаивали мочу в медном сосуде несколько дней, пока не появлялся характерный аммиачный запах, а затем на этой моче замешивали глину. Такой глиной больному раком мозга обмазывали всю голову, будто надевали водолазный шлем, оставляя щелочки для рта, носа и глаз. Периодически шлем меняли, как только подсыхала глина (через 23Pч). Нанесенная на голову в охлажденном виде глина, нагреваясь, «тянула» на себя болезнь. Воздействуя на кожу, мы воздействуем на весь организм и добиваемся с его стороны более выраженных реакций, чем при приеме урины через рот

скачать реферат Технологические основы электроники

Внутрикамерное устройство включает в себя также систему ионной очистки, установленную неподвижно в одной из позиций, систему нагрева подложек, датчики контроля сопротивления и толщины наносимой пленки. 11. Описать метод получения пленок путем катодного распыления Атомарный (молекулярный) поток вещества можно получить, бомбардируя поверхность твердого образца ионами с энергией порядка сотен и тысяч электрон-вольт. Энергия ионов при этом в несколько раз превышает теплоту сублимации поверхностных атомов и образец (мишень) интенсивно распыляется. В процессе бомбардировки мишень активно охлаждают. Это исключает протекание в ней диффузионных процессов. В условиях повышенного по сравнению с термическим вакуумным напылением давления значительная часть распыленных атомов рассеивается, что, с одной стороны, уменьшает скорость осаждения, а с другой — повышает равномерность осаждения пленки по площади подложки. Этому же способствует и большая площадь мишени. Таким образом, по сравнению с термическим испарением в вакууме распыление ионной бомбардировкой позволяет: 1) получать пленки из тугоплавких металлов, перспективных для микроэлектроники; 2) наносить на подложку соединения и сплавы без диссоциации и фракционирования, т. е. без изменения исходного состава; 3) осаждать окисные, нитридные и другие пленки за счет химического взаимодействия распыляемого материала с вводимыми в камеру химически активными газами (реактивное катодное распыление); 4) получать равномерные по толщине пленки на большой площади, в частности, при наличии поверхностного рельефа; 5) многократно использовать мишень в качестве источника материала, что повышает однородность процесса и облегчает его автоматизацию (например, в установках непрерывного действия); 6) обеспечивать высокую адгезию пленок к подложке благодаря специфическим условиям на подложке и высокой энергии осаждающихся атомов (частичное внедрение в решетку материала подложки); 7) обеспечивать малую инерционность процесса.

 Большая Советская Энциклопедия (АТ)

Такие же электронные конфигурации, как и ионы азота, имеют нейтральные атомы последовательных элементов в периодической системе, обладающие тем же числом электронов: Н, Не, Li, Be, В, С (Z = 1,2,3,4,5,6). Периодичность в свойствах элементов определяется сходством внешних электронных оболочек А. Например, нейтральные А. Р, As, Sb, Bi (Z = 15, 33, 51, 83) имеют по три р-электрона во внешней электронной оболочке подобно А. N и схожи с ним по химическим и многим физическим свойствам.   При рассмотрении заполнения электронных оболочек необходимо учитывать, что, начиная с n = 4, электроны с меньшим l, но большим n, связываются прочнее, чем электроны с большим l, но меньшим n, например электроны 4s связаны прочнее, чем электроны 3d. Это отражает рис. 5, показывающий расположение уровней энергии, соответствующее действительному порядку (несколько схематизированному) заполнения электронных оболочек для последовательных элементов в периодической системе элементов Д. И. Менделеева. Числа, стоящие справа у скобок, определяют

скачать реферат Исследование реакции нижней ионосферы на высыпание энергичных частиц из радиационных поясов Земли

Для электронов и ионов высокой энергии во внешнем радиационном поясе наиболее эффективным механизмом рассеяния по питч-углам предполагает существование резонансных взаимодействий с естественными плазменными волнами в магнитосфере, что приводит к доплеровскому смещению частоты на величину, кратную релятивистской гирочастоте. Резонанс с электронами требует большого доплеровского смещения (или высоких скоростей электронов) и энергии На основании теоретических аргументов можно предположить, что ионно-циклотронные волны легче всего генерируются внутри плазмосферы, имеющей высокую плотность плазмы, или в пределах отделившихся от плазмосферы плазменных областей, в которых. Ем=0.3-10 кэВ. Поэтому резонансные энергии электронов должны располагаться в ультрарелятивистской области (0,5 –50 МэВ), в то время как резонансная энергия ионов равна 1 –1000 кэВ. Ионно-циклотронные волны наблюдались преимущественно в вечернем секторе магнитосферы с типичным значением максимальной амплитуды в несколько гамм. На основании рис. 1 (1) можно заключить, что этого достаточно для вовлечения резонансных ионов и высокоэнергичных электронов в режим сильной диффузии.

скачать реферат Вторично-ионная масса спектрометрия

Ионы могут проникать в кристаллическую решетку и захватываться там, израсходовав свою энергию (ионная имплантация) (5) . В результате химических реакций ионов с поверхностными атомами на поверхности образуются новые химические соединения, причем самый верхний слой атомов может оказаться в газообразном состоянии и испариться (химическое распыление) (6). Бомбардирующие положительные ионы в результате процессса оже-нейтрализации могут приобретать на поверхности электроны и отражаться от нее в виде нейтральных атомов (7). Ионы могут оказаться связанными с поверхностью образца (адсорбированными) (8). При ионной бомбардировке металлических поверхностей в определенных условиях возможно возникновение вторичной электронной змиссии (9). Наконец, если поверхностные атомы возбуждаются до ионизированных состояний и покидают образец, имеет место вторичная ионная эмиссия (10). Замедляясь, ион передает энергию твердому телу. При анализе процессов потери энергии удобно различать два основных механизма: соударения с электронами и соударения с ядрами. Первый механизм состоит в том, что быстрый ион взаимодействует с электронами кристаллической решетки, в результате чего возникают возбуждение и ионизация атомов кристалла.

скачать реферат Литий

Из-за небольшого радиуса и маленького ионного заряда литий по своим свойствам больше всего напоминает не другие щелочные металлы, а элемент группы IIA магний (Mg). Литий химически очень активен. Он способен взаимодействовать с кислородом (O) и азотом ( ) воздуха при обычных условиях, поэтому на воздухе он быстро окисляется с образованием темного налета продуктов взаимодействия: 4Li O2 = 2Li2O, 6Li 2 = 2Li3 При контактах с галогенами литий самовоспламеняется при обычных условиях. Подобно магнию (Mg), нагретый литий способен гореть в CO2: 4Li CO2 = C 2Li2O Стандартный электродный потенциал Li/Li имеет наибольшее отрицательное значение (E°298 = –3,05 B) по сравнению со стандартными электродными потенциалами других металлов. Это обусловлено большой энергией гидратации маленького иона Li , что значительно смещает равновесие в сторону ионизации металла: Li-твердый > Li раствор e– Для слабо сольватирующих растворителей значение электродного потенциала лития соответствует его меньшей химической активности в ряду щелочных металлов.

скачать реферат Исследование реакции нижней ионосферы на высыпание энергичных частиц из радиационных поясов Земли

Для электронов и ионов высокой энергии во внешнем радиационном поясе наиболее эффективным механизмом рассеяния по питч-углам предполагает существование резонансных взаимодействий с естественными плазменными волнами в магнитосфере, что приводит к доплеровскому смещению частоты на величину, кратную релятивистской гирочастоте. Резонанс с электронами требует большого доплеровского смещения (или высоких скоростей электронов) и энергии . (1) Ионы для резонанса должны иметь энергию: (2) На основании теоретических аргументов можно предположить, что ионно- циклотронные волны легче всего генерируются внутри плазмосферы, имеющей высокую плотность плазмы, или в пределах отделившихся от плазмосферы плазменных областей, в которых. Ем=0.3-10 кэВ. Поэтому резонансные энергии электронов должны располагаться в ультрарелятивистской области (0,5 –50 МэВ), в то время как резонансная энергия ионов равна 1 –1000 кэВ. Ионно-циклотронные волны наблюдались преимущественно в вечернем секторе магнитосферы с типичным значением максимальной амплитуды в несколько гамм. На основании рис. 1 (1) можно заключить, что этого достаточно для вовлечения резонансных ионов и высокоэнергичных электронов в режим сильной диффузии. Рис. 1 Минимальные амплитуды флуктуирующих электрического и магнитного полей, необходимые для рассеяния протонов ( ) или электронов (-) в режиме сильной диффузии на L=6.

Крышка силиконовая универсальная, 31 см.
Универсальная силиконовая крышка изготовлена из высококачественного пищевого силикона — экологичного и долговечного материала. Не теряет
318 руб
Раздел: Крышки
Форма разъемная для кулича Regent "Easy" круглая, 16x12,5 см.
Форма для выпечки разъемная из алюминия с антипригарным покрытием. Удобная застежка. Поверхность устойчива к царапинам. Размер: 16x12,5 см.
581 руб
Раздел: Формы и формочки для выпечки
Штамп самонаборный 3-х строчный, 1 касса, 38x14 мм.
Самонаборный пластиковый 3-х строчный штамп. В комплект входит оснастка с рифленой пластиной, касса букв и цифр, пинцет. Сменная
492 руб
Раздел: Штемпельная продукция, губочницы
скачать реферат Технологические основы электроники

Внутрикамерное устройство включает в себя также систему ионной очистки, установленную неподвижно в одной из позиций, систему нагрева подложек, датчики контроля сопротивления и толщины наносимой пленки. 11. Описать метод получения пленок путем катодного розпыления Атомарный (молекулярный) поток вещества можно получить, бомбардируя поверхность твердого образца ионами с энергией порядка сотен и тысяч электрон-вольт. Энергия ионов при этом в несколько раз превышает теплоту сублимации поверхностных атомов и образец (мишень) интенсивно распыляется. В процессе бомбардировки мишень активно охлаждают. Это исключает протекание в ней диффузионных процессов. В условиях повышенного по сравнению с термическим вакуумным напылением давления значительная часть распыленных атомов рассеивается, что, с одной стороны, уменьшает скорость осаждения, а с другой — повышает равномерность осаждения пленки по площади подложки. Этому же способствует и большая площадь мишени. Таким образом, по сравнению с термическим испарением в вакууме распыление ионной бомбардировкой позволяет: 1) получать пленки из тугоплавких металлов, перспективных для микроэлектроники; 2) наносить на подложку соединения и сплавы без диссоциации и фракционирования, т. е. без изменения исходного состава; 3) осаждать окисные, нитридные и другие пленки за счет химического взаимодействия распыляемого материала с вводимыми в камеру химически активными газами (реактивное катодное распыление); 4) получать равномерные по толщине пленки на большой площади, в частности, при наличии поверхностного рельефа; 5) многократно использовать мишень в качестве источника материала, что повышает однородность процесса и облегчает его автоматизацию (например, в установках непрерывного действия); 6) обеспечивать высокую адгезию пленок к подложке благодаря специфическим условиям на подложке и высокой энергии осаждающихся атомов (частичное внедрение в решетку материала подложки); 7) обеспечивать малую инерционность процесса.

скачать реферат Осаждение сплава олово-свинец

Они должны быть беспористыми, т.к. коррозионная среда, проникая через поры к основному металлу, разрушают его. Катодное покрытие при наличии пор даже ускоряют коррозионный процесс. Защитные свойства таких покрытий можно повысить за счет многослойности. ОСАЖДЕНИЕ СПЛАВОВ. Часто в промышленности используются покрытия, состоящие не из чистых металлов, а из сплавов. Некоторые металлы вообще не осаждаются в чистом виде, а только совместно с другими металлами. Электроосажденные сплавы часто отличаются рядом ценных свойств: повышенной стойкостью против коррозии, повышенной твердостью, магнитными, антифрикционными свойствами, приятным внешним видом и др. Несмотря на принципиальную возможность, установленную в лабораторных условиях, электролитического осаждения различных сплавов, широкое промышленное применение получили: латунирование, бронзирование, сплавы золота, сплавы олова, магнитные сплавы. Такое положение, по-видимому, связано, с одной стороны, большой сложностью осаждения сплавов по сравнению с осаждением чистых металлов, с другой – недостаточным изучением самого механизма процесса осаждения сплавов.

скачать реферат Вторично-ионная масса спектрометрия

Поскольку плотность электронов в веществе мишени высока и такие столкновения многочисленны, этот процесс, как и в случае потери энергии электронами, можно считать непрерывным. В рамках второго механизма взаимодействие происходит между экранированными зарядами ядер первичного иона и атомами мишени. Частота таких столкновений ниже, поэтому их можно рассматривать как упругие столкновения двух частиц. Ионы высоких энергий хорошо описываются резерфордовским рассеянием, ионы средних энергий - экранированным кулоновским рассеянием, однако при малых энергиях характер взаимодействия становится более сложным. Кроме перечисленных выше механизмов вклад в энергетические потери дает обмен зарядами между движущимся ионом и атомом мишени. Этот процесс наиболее эффективен, когда относительная скорость иона сравнима с боровской скоростью электрона ( ~106 м/с). Таким образом, полные потери энергии - dЕ/dz можно представить в виде суммы трех составляющих - ядерной, электронной и обменной. При малых энергиях ионов преобладает взаимодействие с ядрами, которое приводит к появлению угловой расходимости пучка.

скачать реферат Разработка технологического процесса упрочнения кулачка главного вала с использованием лазерного излучения

Для большинства легирующих элементов энергия связи их в сплаве ниже соответствующей энергии связи основного метала, приходящейся на атом сплава. Поэтому при движении границы разрушения возможно испарение не только атомов, находящихся на поверхности границы разрушения, но и части примесных атомов из слоя некоторой толщины из которого обеспечивается переход примесей к границе разрушения. Толщина этого слоя близка к толщине слоя поглощения светового излучения в металлах, где эффективные температуры и давление весьма высоки, и вследствие этого коэффициент диффузии существенно увеличивается. Скорость подвижности легирующих элементов определяется температурой в жидкой фазе, временем соприкосновения между твёрдой и жидкой фазами, физической природой примесных атомов и концентрацией примесей. Для значительного числа элементов, растворимость их в жидкой фазе выше, чем в твёрдой, поэтому перед границей жидкой фазы образуется слой с пониженным содержанием примесей. После окончания действия излучения прекращается движение границы раздела жидкая фаза – твёрдая фаза, и начинается кристаллизация тонкой плёнки. В этот момент испарение с поверхности перестаёт иметь значение.

скачать реферат Литье

Поршневые машины с холодной горизонтальной камерой прессования (рис. 1, а) имеют пресс-форму, состоящую из 2 частей. Половина пресс-формы 1 крепится к подвижной плите машины, а половина 3 — к неподвижной 4. Стержни, образующие полости в отливках, чаще находятся в подвижной половине для удобства их извлечения из отливки. Подвижная полуформа 1 с большим усилием прижимается к неподвижной 3. Затем доза жидкого металла 5 заливается в камеру прессования 7 и впрессовывается плунжером 6 в рабочую полость пресс-формы 2. После кристаллизации сплава подвижная часть пресс-формы 1 отходит, и отливка выталкивателями 8, которые крепятся на плите, расположенной за подвижной полуформой, выталкивается на конвейер или в тару. Общий вид машины для литья под давлением с холодной горизонтальной камерой прессования приведен на рис 1, г. Неподвижная часть пресс формы крепится к плите 4, а подвижная — к плите 3, которая перемещается по направляющим штангам 2 гидроприводом с рычажным механизмом. Запрессовывание металла в литейную форму производится плунжером 5, который входит в камеру прессования, расположенную в плите 4 Плунжер 5 перемещается в осевом направлении гидроприводом 6.

Развивающая настольная игра "Читай-Хватай English", новая версия.
Игра помогает развить навык чтения английских слов. Правила чтения слов в английском языке совсем не такие, как в русском, поэтому детям
712 руб
Раздел: Классические игры
Стенд "Наши работы".
Стенд состоит из шапки (размером 67х10 см) с пластиковым карманом и самого стенда (размером 67х48 см), к которому крепятся 30 пластиковых
689 руб
Раздел: Демонстрационные рамки, планшеты, таблички
Звуковой плакат "Учимся читать - читаем по слогам".
Представляем Вашему вниманию уникальную новинку — развивающие звуковые плакаты, которые содержат стихотворения, занимательные и
643 руб
Раздел: Электронные и звуковые плакаты
скачать реферат Соли

Физико-химические свойства безводного и гидратированного нитрата одного и того же металла могут сильно отличаться. Безводные кристаллические соединения нитратов d-элементов окрашены. Условно нитраты могут быть разделены на соединения с преимущественно ковалентным типом связи (соли Be, Cr, Z , Fe и др. переходных металлов) и с преимущественно ионным типом связи (соли щелочных и щелочно-земельных металлов). Для ионных нитратов характерны более высокая термическая устойчивость, преобладание кристаллических структур более высокой симметрии (кубической) и отсутствие расщепления полос нитрат-иона в ИК спектрах. Ковалентные нитраты имеют более высокую растворимость в органических растворителях, более низкую термическую устойчивость, их ИК спектры носят более сложный характер; некоторые ковалентные нитраты летучи при комнатной температуре, а при растворении в воде частично разлагаются с выделением оксидов азота. Все безводные нитраты проявляют сильные окислительные свойства, обусловленные присутствием иона O3-, при этом их окислительная способность возрастает при переходе от ионных к ковалентным нитратам.

скачать реферат Взаимосвязь и регуляция процессов

Регуляция на уровне генетического аппарата может привести: 1) к увеличению или уменьшению количества ферментов; 2) к изменению соотношения типов имеющихся в клетке ферментов; 3) к изменению относительного содержания в ней различных вариантов данного фермента (изоферментов), которые, катализируя одну и ту же реакцию, могут различаться по своим каталитическим свойствам.    Такое регулирующее влияние на генную активность могут оказывать гормоны, высокие концентрации субстратов и продуктов метаболизма. Последние могут действовать как непосредственно, так и через изменение продукции соответствующих гормонов, т.е. путем воздействия на железы внутренней секреции. Именно такой путь регулирующего воздействия на обменные процессы лежит в основе биохимической адаптации организма под влиянием мышечной тренировки. РЕГУЛЯЦИЯ ОБМЕНА ВЕЩЕСТВ ЧЕРЕЗ ДОСТУПНОСТЬ КОФАКТОРА    Под кофактором понимается вещество, присутствие которого необходимо для проявления активности ферментов. В отсутствии кофактора фермент не может выполнять своей функции. Часто в качестве кофактора выступают ионы металлов. Так, ион Са  является кофактором фермента  мышечной ткани АТФ – азы.    Регуляция через доступность кофакторов является самым быстрым механизмом.

скачать реферат Ионный источник Кауфмана

В полупроводниковой микроэлектронике широко применяются технологии ионной имплантации и реактивного ионно-лучевого травления (РИЛТ) /1/. Применение совокупности электронно-ионных процессов, получивших общее название «элионная технология», позволяет повысить точность изготовления микроструктур, создать высокопроизводительное автоматизированное промышленное оборудование. Ионно-лучевая обработка материалов характеризуется следующими особенностями: большая энергия активирующего воздействия пучков на материал, подвергаемый обработке; возможность управления пучками с малой инерционностью посредством электромагнитных полей; селективность активирующего воздействия; возможность управления технологическим процессом с помощью ЭВМ; ионные процессы протекают в вакууме или плазме, что гарантирует сохранение чистоты обрабатываемого материала. В полупроводниковой ыикроэлектронине широко применяется технология ионной имплантации. Ионная имплантация - эффективный метод технологической обработки, основанный на взаимодействии управляемых потоков ионов с поверхностью твердого тела с целью изменения его свойств, связанных с атомной структурой.

скачать реферат Материалы с памятью формы

Пластинки, как правило, не являются монокристаллами, а представляют собой пакеты плоскопараллельных доменов – областей новой фазы, различающихся ориентировкой кристаллической решетки (двойники). Интерференция полей напряжения от различных доменов приводит к их частичному уничтожению. Дальнейшее уменьшение упругих полей достигается образованием ансамблей из закономерно расположенных пластин. То есть в результате мартенситного превращения образуется поликристаллическая фаза со своеобразным иерархическим порядком (ансамбли – пластины – домены) в расположении структурных составляющих. Рост внутренних напряжений в процессе мартенситного превращения в определенных условиях приводит к установлению двухфазного термоупругого равновесия, Которое обратимо смещается при изменении внешних условий: под действием механических нагрузок или при изменении температуры размеры отдельных кристаллов и их число изменяются. Мартенситные превращения обнаружены во многих кристаллических материалах: чистых металлах, многочисленных сплавах, ионных, ковалентных и молекулярных кристаллах.

телефон 978-63-62978 63 62

Сайт zadachi.org.ru это сборник рефератов предназначен для студентов учебных заведений и школьников.